MICRODISPOSITIVOS NM

SIP-31
INSTITUTO POLITÉCNICO NACIONAL
SECRETARIA DE INVESTIGACIÓN Y POSGRADO
DIRECCIÓN DE POSGRADO
FORMATO GUÍA PARA REGISTRO DE CURSOS DE PROPÓSITO ESPECÍFICO
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I.
DATOS DEL CURSO DE PROPÓSITO ESPECÍFICO
1.1
NOMBRE DEL CURSO
O MÒDULO:
1.2
CLAVE:
1.3
NÚMERO DE HORAS:
1.4
VALOR CURRICULAR:
1.5
SESIÓN DEL COLEGIO DE PROFESORES EN QUE
SESIÓN No.
SE ACORDÓ LA IMPLANTACIÓN DEL CURSO:
FABRICACIÓN DE MICRODISPOSITIVOS
(Para ser llenado por la SIP)
40
TEORÍA
PRACTICA
T-P
(Para ser llenado por la SIP)
FECHA:
d
1.6
FECHA DE REGISTRO EN SIP:
1.7
FECHA DE INICIO:
1.8
FECHA DE TERMINACIÒN:
DIRIGIDO A:
m
a
(Para ser llenado por la SIP)
d
1.9
40
m
a
Público en General
1.10 REQUISITOS DE INSCRIPCIÓN:
Conocimientos Básicos de Electrónica del Estado Solido
1.11 RECONOCIMIENTO ACADÉMICO A OTORGAR:
Constancia con valor curricular
ANEXAR TRIPTICO O MATERIAL UTILIZADO PARA DIVULGACIÓN
II.
DATOS DE LOS EXPOSITORES
PROFESOR:
Dr. Jacobo Esteban Munguía Cervantes
PROCEDENCIA:
Centro de Nanociencias y Micro y Nanotecnologías
PROFESOR:
Dr. Salvador Mendoza Acevedo
PROCEDENCIA:
Centro de Investigación en Computación
ANEXAR CURRICULUM VITAE DE LOS EXPOSITORES
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III.
DESCRIPCIÓN DEL CONTENIDO DEL PROGRAMA DE LA ASIGNATURA
III.1
OBJETIVO GENERAL:
El participante aprenderá los aspectos teóricos y prácticos de la fabricación de un Microdispositiovo.
OBJETIVO ESPECÍFICO:
Conocer las instalaciones de las salas limpias, los métodos de depósito, grabado y caracterización de
materiales empleados en conjunto a la fabricación de dispositivos electrónicos, además de realizar el
proceso de fabricación de un microdispositivo.
III.2 DESCRIPCIÓN DEL CONTENIDO
TEMAS Y SUBTEMAS
TIEMPO
T
P
MODULO I.- INTRODUCCIÓN A LA MICRO-FABRICACIÓN
1.1 Cuartos limpios y seguridad.
2
1.2 Preparación de sustratos
1
1.3 Depósito de Materiales.
1
1.4 Definición de Patrones.
1
1.5 Remoción de Materiales.
1
1.6 Trabajo en cuarto limpio
4
MODULO II: FABRICACIÓN DE CAPACITORES MOS (Metal-Oxido-Semiconductor)
2.1. Introducción a capacitores MOS.
2.2 Procesos de fabricación de capacitores MOS.
2
1.5
2.3. Fabricación de capacitores MOS.
5
2.4 Caracterización de un capacitor MOS
1.5
MODULO III: FABRICACIÓN DE MICROCANALES
3.1 Introducción a Microcanales.
3.2 Procesos de fabricación de Microcanales.
2
1.5
3.3. Fabricación de Microcanales.
5
3.4 Caracterización de Microcanales
1.5
MODULO IV: FABRICACIÓN DE UN SISTEMA MICRO ELECTRO MECÁNICO
(MEMS)
4.1 Introducción a tecnología MEMS.
4.2 Procesos de fabricación de MEMS.
4.3. Fabricación de un sistema MEM.
4.4 Caracterización de un sistema MEM
2
1.5
5
1.5
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III.3 BIBLIOGRAFÍA UTILIZADA EN LA ASIGNATURA
1. S. Franssila, “ Introduction to Micro Fabrication” Second Edition, Wiley. 2010
2. M. J. Madou, “Fundamentals of Microfabrication and Nanotechnology”, Third Edition, CRC Press,
2011.
3. Wolf, S., R. N. Tauber. Silicon Processing for the VLSI Era, Vol. 1-4, Lattice Press, 1990.
4. Ramstorp, M. Introduction to Contamination Control and Cleanroom Technology. Wiley-VCH, 2000
5.
Baharat Bhushan, “Springer Hambook of Nano-technology”, Springer, Third Edition, 2010
6. Cornelius T. Leondes, “MEMS/NEMS Hanbook Techniques and Applications” Springer, 2006.
7. Suman Chakraborty, “Microfluidics and Microfabrication” Springer, 2010.
8. Thomas M. Adams, “Introductory MEMS Fabrication and Applications”, Springer, 2010.
III.4 PROCEDIMIENTOS O INSTRUMENTOS DE EVALUACIÓN A UTILIZAR
Evaluación escrita final.
45 %
Evaluación práctica
45 %
Participación en clase
10 %
100 %
Asistencia mínima 90% como requisito de acreditación.
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