Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV

Evolución a través de la ciencia –
ASTRA TECH Implant System™ EV
ASTRA TECH Implant System
BioManagement Complex
™
El éxito de un sistema de implantes no depende únicamente de una sola característica. Igual que
en la naturaleza, existen diferentes cualidades interdependientes trabajando conjuntamente. La
combinación de las siguientes características solo la encontrará en el ASTRA TECH Implant System:
• OsseoSpeed: más hueso, más rápido
• MicroThread: estimulación biomecánica del hueso
• Conical Seal Design: ajuste fuerte y estable
• Connective Contour: aumento del volumen y del área de contacto de los tejidos blandos
OsseoSpeed™
MicroThread™
Conical Seal Design™
Connective Contour™
Evolución a través de la ciencia –
™
ASTRA TECH Implant System EV
Nos complace presentar a todos los profesionales dentales que trabajan con implantes el
siguiente paso en la evolución continua del ASTRA TECH Implant System. La base de esta
evolución sigue siendo el exclusivo ASTRA TECH Implant System BioManagement Complex,
que cuenta con una extensa documentación en la que se demuestra a largo plazo un
mantenimiento del hueso marginal y unos excelentes resultados estéticos.
Filosofía del diseño
Al diseñar un sistema de implantes, deben tenerse
en cuenta varios parámetros:
•
•
•
•
Comportamiento clínico y biológico a largo plazo
Facilidad de uso
Versatilidad y cobertura de indicaciones
Integridad mecánica y robustez
Además, la filosofía de diseño del ASTRA TECH
Implant System EV se basa en la dentición natural,
utilizando un enfoque de la corona a la raíz, específico
para cada localización. Utilizando la dentición natural
como guía, los implantes, los pilares y los tornillos de pilar,
incluidos los tornillos de retención y los cilindros, se han
diseñado para responder a los requisitos de integridad
mecánica, cantidad ósea, capacidad de carga y respuesta
biológica.
El resultado de esta filosofía de diseño es una gama de
productos que aporta versatilidad para responder a las
necesidades de cada situación clínica individual.
Uno de los requisitos previos para el desarrollo del sistema de
implantes fue mantener las características básicas del
ASTRA TECH Implant System BioManagement Complex:
la superficie OsseoSpeed1–3; el diseño del MicroThread4, 5 ;
la conexión Conical Seal Design6, 7 ; y el Connective Contour 8, 9.
Al mantener las funciones exclusivas del ASTRA TECH
Implant System BioManagement Complex se garantiza
un resultado fiable, predecible y estético tanto a corto
como a largo plazo.
Durante el proceso de diseño y desarrollo, el sistema
fue extensamente probado mediante varios métodos.
Los resultados de estas pruebas permitieron una mayor
optimización de la integridad mecánica de todos los
componentes.
Este folleto resalta los resultados clave de algunas de
las pruebas y presenta un estudio clínico en curso con
el ASTRA TECH Implant System EV.
3
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
Verificación de la
filosofía del diseño
Selección del material
y consideraciones del diseño
Métodos de prueba
de la integridad mecánica
La selección de los materiales adecuados para un implante
dental y sus componentes asociados es fundamental para
lograr el éxito clínico a largo plazo, así como una robusta
integridad mecánica.
El método estándar utilizado para medir la integridad
mecánica de los diseños de implantes es el ISO 14801:2007.
Este método de prueba de resistencia a la fatiga consiste en
aplicar una carga excéntrica de 30° a un conjunto implantepilar. Según el estándar, que simula el uso a largo plazo,
la resistencia a la fatiga se determina por la carga cuando
tres muestras consecutivas de cada diámetro del implante
sobreviven a cinco millones de ciclos de carga. Este método
estándar de 30° evalúa principalmente la resistencia del
implante en sí mismo y no de todo el conjunto implantepilar con una conexión cónica interna.
Además de la selección del material, el diseño y la geometría
tienen un importante impacto en la integridad mecánica
total del conjunto implante-pilar.
Los implantes OsseoSpeed EV se producen con titanio
comercialmente puro (Grado 4) según los requisitos para
los implantes dentales (ISO ASTM 67) para garantizar la
biocompatibilidad. Por otro lado, el material se trabaja en
frío y se selecciona según nuestras especificaciones para
garantizar unas características de mayor resistencia.
Producto
Resistencia a la
tensión (MPa)
Ti Grado 4
(ASTM 67 lote seleccionado)
Implantes
820
Ti-6AL-4V ELI
(ASTM F 136)
Pilares estándar
860
Ti-6AL-4V ELI
(ASTM F 136 lote seleccionado)
Tornillos de pilar
1095
Ti Grade 4
(ASTM 67 lote estándar)
Implante genérico
550
Para poder probar específicamente la resistencia a la fatiga
de la interfase implante-pilar y pilar-cilindro,
DENTSPLY Implants desarrolló un método de resistencia
a la fatiga, que aplica una carga excéntrica de 90°. El índice
de resistencia se basa en la carga de supervivencia con
100.000 ciclos, utilizando un diagrama Wöhler. La resistencia
de la conexión cónica interna se evalúa mejor mediante el
modelo de 90°.
Durante el proceso de diseño y desarrollo, para evaluar la
integridad mecánica, se utilizó tanto el método de carga
lateral de 30° ISO, como el método de carga excéntrica de
90° de DENTSPLY. Esto se realizó con el fin de obtener una
mayor perspectiva de las propiedades de resistencia del
diseño del nuevo sistema de implantes.
Especificación de materiales y resistencias a la tensión del ASTRA TECH
Implant System EV y de un implante genérico.
Método de carga excéntrica de 30° (ISO 14801:2007) y método de carga
excéntrica de 90° de DENTSPLY Implants.
4
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
El implante OsseoSpeed™ EV
4,2 S es un 17% más
resistente que su predecesor10.
Prueba de implantes
Los implantes OsseoSpeed EV se conectaron a sus
correspondientes pilares TiDesign EV. El resultado de la prueba
se comparó con su predecesor, un implante OsseoSpeed TX
4,0 conectado a un pilar TiDesign. El límite de fatiga se definió
según el método de carga excéntrica de 30° ISO 14801:2007.
OsseoSpeed EV/
TiDesign EV
Los implantes OsseoSpeed Profile EV se probaron en el
método de carga excéntrica de 30° según ISO 14801:2007
con el perfil vestibular hacia abajo (presentando el caso
de carga más exigente), conectados a sus correspondientes
pilares TiDesign. El resultado se comparó con un
OsseoSpeed TX Profile 4,5 con un pilar TiDesign
correspondiente.
Índice de
resistencia
del implante*
3,0 S
0,50
3,6 S
0,75
4,2 S
1,17
4,2 C
0,83
4,8 S
1,92
4,8 C
1,33
5,4 S
2,58
OsseoSpeed TX 4,0 / TiDesign
1,00
Resistencia a la fatiga de implantes OsseoSpeed EV (*cuando se prueba
el conjunto implante-pilar) presentado como un índice proporcional
a la resistencia de un implante OsseoSpeed TX 4,0.
OsseoSpeed Profile EV/
TiDesign Profile EV
Índice de
resistencia
del implante*
4,2 C
1,05
4,2 S
1,16
4,8 C
1,42
4,8 S
1,52
OsseoSpeed TX Profile 4,5 /
TiDesign
1,00
Resistencia a la fatiga de implantes OsseoSpeed Profile EV (*cuando se prueba
el conjunto implante-pilar) presentado como un índice proporcional a la
resistencia de un implante OsseoSpeed TX 4,5 Profile (cónico).
α=30°
F
C
3 mm
Configuración de la prueba según ISO 14801:2007. Los conjuntos
implante-pilar OsseoSpeed Profile EV se probaron en un ángulo de
30° con el implante insertado en un bloque, dejando expuestos 3 mm
hasta el cuello del mismo (es decir, el nivel óseo nominal). Se colocó
un tapón de prueba semiesférico (C) sobre el pilar para garantizar
la distribución correcta de la carga (F).
5
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
Prueba de pilares
Se probó el pilar de una pieza con un tornillo de pilar
integrado y el pilar de dos piezas con un tornillo de pilar
separado, según el método de carga excéntrica de 90°.
Los pilares OsseoSpeed Profile EV se montaron en el método
de carga excéntrica de 90° con el perfil vestibular hacia
abajo, presentando el caso de carga más exigente.
El resultado de la prueba se comparó con los predecesores,
TiDesign y Direct Abutment, respectivamente, conectados
a un implante OsseoSpeed TX 4,0 o un implante
OsseoSpeed TX Profile 4,5.
Pilar OsseoSpeed Profile EV
Pilar OsseoSpeed EV
Implante
Índice de
resistencia
Índice de
resistencia
Índice de
resistencia
Índice de
resistencia
TiDesign EV
con tornillo
separado
Direct Abutment
EV con tornillo
integrado
TiDesign EV
con tornillo
separado
Direct Abutment
EV con tornillo
integrado
Implante
Implante
3,0 S
0,74
3,0 S
0,73
4,2 C
0,91
4,2 C
0,88
3,6 S
1,37
3,6 S
0,95
4,2 S
1,04
4,2 S
1,16
4,2 S
1,47
4,2 S
1,50
4,8 C
1,17
4,8 C
1,12
4,2 C
1,47
4,2 C
1,36
4,8 S
1,22
4,8 S
1,44
OsseoSpeed
TX Profile 4,5
1,00
OsseoSpeed
TX Profile 4,5
1,00
4,8 S
2,11
4,8 S
1,82
4,8 C
2,05
4,8 C
1,77
5,4 S
2,74
5,4 S
2,00
OsseoSpeed
TX 4,0
1,00
OsseoSpeed
TX 4,0
1,00
Resistencia a la fatiga de TiDesign EV y Direct Abutment EV – presentada
como un índice proporcional a la resistencia de los pilares correspondientes
(TiDesign con un tornillo separado y Direct Abutment con tornillo integrado,
respectivamente) conectados a un implante OsseoSpeed TX 4,0. (datos en
archivo)
El pilar OsseoSpeed™ EV 4,2 S
es un 47% más resistente que
su predecesor.
6
Implante
Resistencia a la fatiga de TiDesign Profile EV y Direct Abutment Profile EV
– presentada como un índice proporcional a la resistencia de los pilares
correspondientes (TiDesign con un tornillo separado y Direct Abutment con
tornillo integrado, respectivamente) conectados a un implante OsseoSpeed TX
Profile 4,5 (cónico). (Datos en archivo)
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
Con el torque de colocación recomendado,
cada uno de los tornillos de pilar aporta
una precarga controlada y una menor
torsión12.
Prueba del cono superior
del Uni Abutment EV
El Uni Abutment EV se ha diseñado especialmente con
un cono superior de 33° y puede compensar hasta 66° de
convergencia o divergencia entre dos implantes. El diseño
aporta una generosa versatilidad quirúrgica y restauradora
y una sólida integridad mecánica.
La integridad mecánica del pilar Uni Abutment EV, incluido
el cilindro y el tornillo de retención, se probó según el
método excéntrico de 90° de DENTSPLY Implants.
El resultado de la prueba se comparó con el del predecesor,
un Pilar Recto de 20° montado con un correspondiente
cilindro y tornillo de retención.
Índice de
resistencia
Pilar
Uni Abutment EV 33°
1,40
Pilar Recto de 20°
1,00
Resistencia a la fatiga del cono superior de Uni Abutment EV presentado
como un índice proporcional a la resistencia de un Pilar Recto.
El Uni Abutment EV es
un 40% más resistente
que su predecesor11.
Mecánica de los tornillos
Cuando se aprieta un tornillo de pilar, se genera una precarga
(fuerza axial), que asienta con seguridad el pilar en el
implante. Lograr la precarga correcta es un factor fundamental
para mantener la integridad de la conexión implante-pilar.
Con la precarga correcta se reduce el aflojamiento de tornillos,
aumenta la resistencia a las altas fuerzas masticatorias y se
eliminan las filtraciones en la interfase. La precarga depende
de varios factores, como por ejemplo:
•
•
•
•
tamaño del tornillo de pilar
características de la superficie del pilar
diseño de pilar
diseño del implante y características de la superficie
En el ASTRA TECH Implant System la precarga
de preferencia es de al menos 250 N.
Al apretar, también se ejercen fuerzas de torsión en el
tornillo del pilar. Deben evitarse las fuerzas de torsión altas,
ya que pueden hacer que el tornillo se afloje y se fracture.
El tornillo óptimo logra una precarga suficiente y al mismo
tiempo reduce al mínimo la cantidad de torsión.
Los tornillos de pilar del ASTRA TECH Implant System EV
se han diseñado de forma exclusiva con cabezales cónicos
y superficies con tratamiento anodizado para la codificación
por colores, lo que garantiza una precarga controlada
y reduce las fuerzas de torsión, al mismo tiempo que se
utiliza el torque de apriete uniforme de 25 Ncm.
Preload(N)
(N)
Precarga
400
350
300
250
200
150
100
50
0
3.0
3.6
4.2
4.8
5.4
Todos los tornillos de pilar del ASTRA TECH Implant System EV superaron
la precarga de al menos 250 N con un torque de apriete de 25 Ncm.
7
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
Prueba de filtración
del Conical Seal Design™
La filtración de contenido microbiano a través de la unión
implante-pilar se considera un factor que contribuye a las
reacciones inflamatorias en el tejido adyacente. Al mejorar
y actualizar la conexión implante-pilar, la garantía de un
sellado firme de la interfase es un aspecto importante del
resultado clínico.
La conexión
Conical Seal Design™ no
mostró ninguna filtración13.
En primer lugar, todo el conjunto se sumerge en una solución
de cloruro de sodio (NaCl). A continuación, se crea una
“infrapresión” dentro del cono del conjunto implante-pilar
y el conjunto se somete a una carga cíclica en un ángulo
de 30° según ISO 14801:2007.
Con un sellado intacto, la infrapresión se mantiene y no
se detecta ninguna filtración. En caso de que se rompa el
sellado, la infrapresión haría que la solución pasara a través
de la conexión cónica, lo que produciría un aumento del
nivel del líquido en la columna de infrapresión que se
puede medir.
Para esta prueba, se montaron implantes OsseoSpeed EV
y los correspondientes pilares TiDesign EV, y se cargaron
mediante una fuerza cíclica excéntrica de 30° a 275 N
durante diez minutos. No se detectó ninguna filtración
de líquido en ninguno de los conjuntos probados13.
8
Infrapresión
Underpressure
DENTSPLY Implants ha desarrollado un método de
prueba para verificar la integridad de la conexión del
Conical Seal Design. Su finalidad es verificar que el sellado
de la conexión implante-pilar se mantiene intacta bajo
condiciones de carga simulada.
Carga
Load
x
Ilustración esquemática del método de prueba de filtración de DENTSPLY Implants.
El implante y el pilar se montaron según el método excéntrico de 30°.
La infrapresión se crea mediante un orificio realizado en la parte inferior
del implante. Se puede detectar la fuga de líquidos a través del aumento
en la columna del líquido, que se ilustra esquemáticamente con una "x".
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
Prueba del procedimiento de fresado
y del torque de inserción
La preparación del lecho del implante para el ASTRA TECH
Implant System EV se lleva a cabo con un procedimiento
de fresado que aporta el grado de estabilidad primaria del
implante de preferencia. El protocolo que se ha desarrollado
para preparar la osteotomía, permite dos opciones para
tratar la cortical, en función de su grosor: cortical delgada
de <2 mm y cortical gruesa de ≥2mm. El protocolo de
fresado aporta la misma relación entre la preparación de
la cortical y el diámetro de implante que los protocolos de
fresado para OsseoSpeed TX. El protocolo también incluye
la flexibilidad de la preparación de una osteotomía más
ancha apicalmente o a lo largo de toda la osteotomía, según
sea necesario.
En hueso artificial, se prepararon lechos de implantes para
OsseoSpeed EV 4,2 S y OsseoSpeed TX 4,0 S de 11 mm de
longitud, respectivamente. Para el implante OsseoSpeed EV,
se aplicó una preparación para una cortical delgada y para
el OsseoSpeed TX se utilizó un protocolo de hueso poco
denso. Se insertaron los implantes utilizando una unidad de
fresado y se registraron los valores de torque de inserción.
Implante
Protocolo
de fresado
Índice de torque
de inserción
OsseoSpeed EV
Cortical delgada
1,4*
OsseoSpeed TX
Protocolo de hueso
poco denso
1,0
Torque de inserción de OsseoSpeed EV presentado como índice proporcional
al torque de inserción de OsseoSpeed TX.*No se han utilizado las fresas
opcionales para OsseoSpeed EV, que proporcionan una osteotomía más
ancha. (datos en archivo)
El protocolo de fresado
flexible aporta la estabilidad
primaria de preferencia.
Los resultados indican la posibilidad de lograr una mayor
estabilidad primaria medida como torque de inserción en el
hueso poco denso. Esta comparación no refleja la flexibilidad
que ofrece la preparación opcional de una osteotomía más
ancha.
9
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
Evidencia clínica
Experiencia clínica
El ASTRA TECH Implant System EV es el resultado
de la información recibida y de la comunicación con
profesionales de la comunidad dental global. Un grupo
internacional de colegas participó en todas las fases del
desarrollo, compartiendo sus perspectivas y reconociendo
los objetivos de la nueva gama. El grupo fue ampliándose
gradualmente, hasta llegar a los 47 participantes de distintos
países. En total, se realizaron más de 700 tratamientos
de implantes en 14 países y los resultados quirúrgicos,
A continuación se muestra el caso de un paciente
del programa de colaboración internacional.
Una paciente que necesitaba una
restauración unitaria, debido a la fractura
de una raíz, en la posición 15. El área
cicatrizó durante 12 semanas.
Se dejó que OsseoSpeed EV 4,2 S
se integrara junto con un pilar de
cicatrización transepitelial durante
8 semanas. Contorno del tejido blando
en la retirada del pilar de cicatrización.
El contorno del tejido blando se esculpió
anatómicamente tras 4 semanas con una
restauración provisional con Temporary
Abutment EV y una corona provisional
cementada.
Colocación de un Pilar ATLANTIS
de titanio dorado.
Vista clínica de la corona monolítica
totalmente cerámica tras 18 meses
en boca.
Control radiográfico a los 18 meses
de seguimiento.
Cortesía del Dr. Marcus Dagnelid, Dagnelidkliniken, Gotemburgo, Suecia
10
protésicos y clínicos se registraron antes de la presentación
oficial del producto. Los comentarios recibidos durante esta
colaboración nos ayudaron a perfeccionar el ASTRA TECH
Implant System EV, incluida la gama OsseoSpeed Profile EV.
Algunas de estas experiencias también se han resumido en
una publicación científica 14.
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
En un estudio en curso multicéntrico, prospectivo, aleatorio
y controlado, una serie de investigadores de cinco clínicas
(4 en universidades y 1 privada) realizarán el seguimiento
de 120 pacientes durante 5 años.
Hasta la fecha, un grupo de 59 pacientes han recibido
79 implantes OsseoSpeed EV, mientras que el grupo
control, de 61 pacientes, ha sido tratado con 87 implantes
OsseoSpeed TX, en todas las posiciones de la boca.
Los resultados preliminares demuestran que el hueso
marginal que rodea a todos los implantes se mantiene
estable desde la colocación del implante, hasta la
cementación de la corona definitiva y tras el seguimiento
a un año, sin diferencias estadísticas entre los dos grupos 15, 16.
Cuando se preguntó sobre la percepción clínica de la
estabilidad del implante, lograda durante la colocación, más
de dos tercios de los clínicos afirmaron que OsseoSpeed EV
ofreció una mejor estabilidad primaria en comparación con
OsseoSpeed TX. Estos comentarios cualitativos sustentan
uno de los objetivos del protocolo de fresado desarrollado.
Paciente de 50 años, rehabilitada con
un único implante, restaurado con una
corona metal-cerámica en la posición 36;
radiografía en la colocación del implante.
ofimplantes
implants
%Cumulative
acumulativo%de
Estudio clínico en curso
100
Loss Aumento
Gain
Pérdida
90
80
70
60
50
40
30
20
10
0
-3,0
-2,0
-1,0
0,0
1,0
2,0
3,0
Cambio enBone
el nivel
dechange
hueso (mm)
level
(mm)
Distribución de frecuencia de los cambios del nivel óseo, medidos a partir de
radiografías, desde el momento de la carga hasta el seguimiento a un año;
el 44% de los implantes OsseoSpeed EV no perdió hueso marginal o incluso
mostró una ganancia.
No se observó pérdida ósea marginal
mesial ni distal en el seguimiento
a 6 meses.
No se observó pérdida ósea marginal
mesial ni distal en el control a 2 años.
Cortesía del Dr. Nurit Bittner y del Dr. James Fine. Universidad de Columbia,
Facultad de Medicina Dental, Nueva York, NY, Estados Unidos.
11
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
Resumen y conclusión
La selección de materiales y las pruebas exhaustivas han demostrado que
el ASTRA TECH Implant System EV supera a su predecesor en resistencia
y fiabilidad, al mismo tiempo que mantiene los principios y los beneficios
del ASTRA TECH Implant System BioManagement Complex.
Por otro lado, la documentación clínica en curso demuestra que el ASTRA TECH
Implant System EV aporta una mayor flexibilidad quirúrgica y protésica,
así como unos buenos resultados clínicos y de mantenimiento de los niveles
de hueso marginal.
12
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
Referencias
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abutment screw design for each implant
platform size (P332). Clin Oral Implants Res
2013;24(Supplement 9):162-63.
13
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
Una evolución continua
Las revolucionarias innovaciones son producto del conocimiento
y de la comprensión de los procesos biológicos y clínicos
implicados en la terapia con implantes dentales.
1989
2007
Se presentan los pilares CAD/CAM
ATLANTIS específicos para cada
paciente para el ASTRA TECH
Implant System.
Se presenta la idea de bombardear la
superficie del implante con partículas
de dióxido de titanio para aumentar el
crecimiento óseo y la osteointegración.
Nace la superficie TiOblast.
1985
Se inicia el uso clínico de la primera
generación de implantes con Conical
Seal Design y Connective Contour en
un estudio en el Hospital Universitario
Karolinska en Estocolmo, Suecia.
1991
Surge la idea de aplicar roscas diminutas
en el cuello del implante para asegurar
una estimulación biomecánica óptima del
hueso y mantener el hueso marginal: nace
MicroThread. Tras comparar 840 roscas de
diferentes formas y tamaños, se identifica
el perfil óptimo para la distribución positiva
del estrés.
1990
14
Un equipo de la Universidad de Oslo, Noruega, idea el concepto
de la superficie del implante modificada con flúor para acelerar el
proceso de osteointegración. Como resultado, se inician los primeros
estudios preclínicos experimentales sobre OsseoSpeed en 1993.
En el año 2000 se coloca por primera vez en un paciente un
implante OsseoSpeed en la Universidad de Oslo. La primera y única
superficie de implante modificada químicamente, OsseoSpeed,
se lanza en la EAO de París en 2004.
Evolución a través de la ciencia – ASTRA TECH Implant System™ EV
2014
2010
Lanzamiento del ASTRA TECH Implant System EV. La filosofía
de diseño del sistema se basa en la dentición natural,
utilizando un enfoque de la corona a la raíz, específico
para cada localización.
Se lanza OsseoSpeed TX. TX equivale a "tapered
apex", ápice estrecho, y se introduce en la gama
completa de implantes.
Presenta una interfase exclusiva* con la colocación en una
sola posición de los pilares CAD/CAM ATLANTIS específicos
para cada paciente.
2011
Se presenta OsseoSpeed TX Profile, el implante único
y patentado, diseñado anatómicamente para crestas
inclinadas.
*Pendiente de patente
15
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Acerca de DENTSPLY Implants
DENTSPLY Implants ofrece soluciones completas para todas las fases del
tratamiento con implantes, incluyendo las líneas de implantes ANKYLOS®,
ASTRA TECH Implant System™ y XiVE®, tecnologías digitales como las soluciones
ATLANTIS™ específicas para cada paciente y la cirugía guiada SIMPLANT®,
soluciones regeneradoras SYMBIOS® y programas de desarrollo profesional
y empresarial, como STEPPS™. DENTSPLY Implants crea valor para profesionales
dentales y ofrece unos resultados predecibles y duraderos de los tratamientos
con implantes, lo que proporciona una mejor calidad de vida a los pacientes.
Siga a DENTSPLY Implants
www.dentsplyimplants.es
Acerca de DENTSPLY International
DENTSPLY International Inc. es una empresa líder en la fabricación y distribución
de productos dentales y de salud. Dentro del campo de la odontología,
los más de 115 años de compromiso hacia la innovación y de colaboración
con los profesionales han permitido la mejora de nuestra cartera de productos
consumibles y pequeños equipamientos. Con la central en Estados Unidos,
la compañía opera globalmente con ventas en más de 120 países.