curso - Planta Piloto de Química Fina

III CURSO GENERAL
DE ESPECTROMETRÍA ATÓMICA
(AA, ICP-OES & ICP-MS)
ORGANIZADO POR:
FUNDACION GENERAL DE
LA UNIVERSIDAD DE ALCALA
CON LA COLABORACIÓN DE
Alcalá de Henares, 8, 9, 10 y 11 de Junio de 2004
OBJETIVOS DEL CURSO
La Planta Piloto de Química Fina de la Universidad de Alcalá, en colaboración con
la empresa Varian Ibérica organiza, dentro del ciclo de actividades que la Fundación
promueve anualmente, el presente curso general de Espectrometría Atómica (AAS,
ICP-OES, ICP-MS), aplicada al análisis elemental.
La determinación de trazas y ultratrazas de elementos metálicos en las diferentes
matrices y campos de aplicación, es uno de los retos más importantes a que se enfrentan
hoy día los laboratorios de análisis químico. Las normativas legales vigentes y el
cumplimiento de los cada vez más rigurosos protocolos de calidad requieren la
utilización de técnicas analíticas y equipos instrumentales capaces de dar cumplida
respuesta a estos requerimientos, con la fiabilidad operativa y calidad analítica
adecuadas a cada necesidad.
La amplia variedad de alternativas instrumentales disponibles, cada una con sus
correspondientes características, ventajas e inconvenientes, a menudo dificulta la
elección de la técnica de trabajo más adecuada a cada necesidad y, dentro de ésta, la
configuración que pueda ofrecer la más conveniente relación coste/productividad.
El objetivo principal de este Curso es proporcionar a los asistentes los conocimientos
básicos, tanto teóricos como prácticos, relacionados con la problemática del análisis de
trazas y ultratrazas con las Técnicas Espectrométricas más conocidas: La Absorción
Atómica tanto con Llama como con Horno de Grafito y Generación de Vapor y la
Espectrometría de Plasma ICP-OES en sus diferentes configuraciones y alternativas.
También se abordarán los últimos avances en tecnología de Plasma acoplada a sistemas
de detección por masas, ICP-MS. Para completar un enfoque eminentemente práctico,
las sesiones teóricas se complementan con sesiones prácticas, realizadas con la
instrumentación más actual, sobre las técnicas de mayor implantación, AA e ICP-OES.
Es objetivo general del curso generar un entorno de comunicación abierta entre los
asistentes y fomentar el diálogo entre los mismos para facilitar así el intercambio de
experiencias e información, de forma que además de obtener unos sólidos fundamentos
en el campo del análisis de trazas mediante las técnicas de Absorción Atómica y
Plasma, puedan utilizarlos con arreglo a sus intereses profesionales específicos.
DIRIGIDO A
Profesionales que tanto en laboratorios públicos como privados, se enfrentan día a día
con el reto de desarrollar métodos espectroscópicos aplicados al análisis de trazas.
DIPLOMA
A todos los asistentes que sigan con asiduidad el curso y aprovechamiento, se les
entregará un diploma acreditativo.
PROGRAMA
Día 8 de Junio de 2004
Fundamento y aplicaciones de la Absorción Atómica. Atomización por llama
Sesión de Mañana
Entrega de documentación. Presentación del curso.
La problemática del análisis elemental. Fundamentos de la Espectrometría Atómica.
Instrumentación en Absorción Atómica. Atomización por llama.
Aplicaciones más importantes.
Diferentes métodos de Calibración. Características analíticas:. Sensibilidad, Límite de
Detección, Precisión y Exactitud.
Interferencias generales y su control.
13.30 h.- Comida.
Sesión de Tarde. Prácticas.
Día 9 de Junio de 2004
Análisis de ultratrazas por Absorción Atómica: Generación de Vapor y Horno de Grafito
Sesión de Mañana
Sistemas de Generación de Hidruros y Vapor frío: Fundamentos e instrumentación.
Características en la generación de hidruros. Aplicaciones.
La Absorción Atómica con Horno de Grafito: Fundamentos e Instrumentación.
Interferencias típicas en Absorción Atómica con Horno de Grafito y su corrección.
Empleo de correctores de fondo, plataformas, modificadores de matriz.
Aplicaciones.
13.30 h.- Comida.
Sesión de Tarde. Prácticas.
Día 10 de Junio de 2004
Espectrometría por Emisión de Plasma ICP-OES
Sesión de Mañana
La Espectrometría de Plasma en el contexto de las Técnicas Espectrométricas.
Instrumentación básica. Sistemas Radiales y Axiales; Secuenciales y Simultáneos.
Nuevas Tecnologías de detección. Comparación con los sistemas tradicionales.
Estudio de interferencias típicas y sus sistemas de corrección.
Aplicaciones más importantes.
13.30 h.- Comida.
Sesión de Tarde. Prácticas.
Día 11 de Junio de 2004
Espectrometría por Emisión de Plasma ICP-MS. Comparación de Técnicas.
Introducción a la política de Calidad en el laboratorio de análisis.
“Nuevas” Tecnologías en el análisis de ultratrazas. Espectrometría de Plasma ICP-MS.
Conceptos y características generales. Instrumentación.
Estudio de interferencias típicas y su control. Aplicaciones más importantes.
Comparación resumida de AAS, ICP-OES e ICP-MS.
Criterios de Calidad Analítica en Absorción Atómica según ISO-17025.
13.30 h.- Fin del Curso.
PRÁCTICAS





Selección de parámetros y estudio de interferencias en AAS. Aplicación de la AAS
con llama en la determinación de Calcio en muestra alimentaria.
Determinación de Hg en vertidos industriales por la técnica de Vapor frío.
Determinación de Pb en muestras medioambientales por AAS con Horno de Grafito.
Desarrollo de un programa multielemento por Espectrometría de Plasma ICP-OES.
Aplicaciones del microondas en la preparación de muestras en productos
alimentarios, medioambiente e industria farmacéutica.
CURSO
LUGAR
PLANTA PILOTO DE QUIMICA FINA.
Campus Universitario.
Carretera Madrid-Barcelona, km. 33,6.
28.871-Alcalá de Henares.
Tel.: 918855068. Fax: 918855057.
http://www.uah.es/otrosweb/inves/UnidadesDeInvest/ppqf.html
PONENTES
Rafael Sanz, Director (Varian).
Fernando Tobalina, Especialista en Espectroscopia (Varian).
Antonio Crego, Prof. Titular Dpto. Q. Analítica (Univ. de Alcalá).
Emiliano Rojas, Jefe de Sección (Laboratorio Municipal de Higiene, Madrid).
FECHAS
Días 8, 9, 10 y 11 de Junio de 2004.
HORARIO
Mañanas: 9,00 a 13,30 horas.
Tardes: 15,00 a 17,00 horas.
MATRÍCULA
420 €.
INFORMACIÓN
Fundación General de la Universidad de Alcalá.
Imagen, 1 y 3.
28.801-Alcalá de Henares.
Tel.: 918797430. Fax: 918797455.
e-mail: mailto:[email protected]
http://www.fgua.es/
Plazas según riguroso orden de inscripción, previa reserva telefónica.
Fecha límite el 2 de Junio de 2004.
Para los asistentes de fuera de Madrid, que deseen alojamiento,
consulten con la Fundación General de la Universidad de Alcalá.
BECAS
Se dotarán de becas al 10% de los inscritos, que así lo soliciten y adjunten curriculum
vitae.
III CURSO GENERAL DE ESPECTROSCOPÍA ATÓMICA (AA & ICP-AES)
Alcalá de Henares 8, 9,10 y 11 de Junio de 2004


INSCRIPCIÓN
Para inscribirse, primero hay que reservar plaza telefónicamente (Tel. 91 2805825; Fax.
912805740, Fundación General de la Universidad de Alcalá). Una vez confirmada la plaza,
enviar por fax a la Fundación el boletín de inscripción junto a una copia del resguardo del
ingreso correspondiente a la matrícula. El ingreso se puede realizar por transferencia bancaria
a Cajamadrid, en el número de cuenta 2038/2201/22/6000662787 a nombre de la Fundación
General de la Universidad de Alcalá o mediante talón nominativo a nombre de la misma.
Para cualquier otro tipo de información técnica sobre el curso pueden ponerse en contacto con:
VARIAN IBERICA, S.A. (Srta. Paloma García)
Avda. Pedro Díez, 25
28019-Madrid
Tfno.: 91-472 76 12
Fax: 91-472 50 01
e-mail: [email protected]
BOLETÍN DE INSCRIPCIÓN
III CURSO GENERAL DE ESPECTROSCOPÍA ATÓMICA (AA & ICP-AES & ICP-MS)
Alcalá de Henares 8, 9, 10 y 11 de Junio de 2004
Apellidos y nombre .............................................................................................................................
Dirección ............................................................................................................................................
Población ...................................................................................... C.P..............................................
Empresa ................................................................... Cargo ............................................................
Aplicación .................................................... Utiliza AA


Marca/Modelo ...................................
Utiliza ICP
Marca/Modelo ....................................
Dirección de la Empresa ....................................................................................................................
Población ...................................................................................... C.P...............................................
C.I.F. ...................................... Teléfono ....................................... Fax ..............................................