Capítulo 4 Técnicas de fabricación de fibras 4.1 Introducción Hasta ahora se ha visto el análisis de las fibras ópticas desde el puntode vista teórico y ahora vamos a acometer primero una descripción tanto de los requerimientos de las fibras desde el punto de vista práctico, así como un esbozo sobre los sistemas de fabricación de estas. Para finalizar este apartado veremos las características de fibras comerciales así como las de los cables, que son las fibras más los revestimientos que ofrecen rigidez y manejabilidad a las fibras. Lo primero es ver qué debemos exigirles a las fibras para que pueden ser usadas en sistemas prácticos, será esencial que: Puedan producirse fibras con características de transmisión estables a precios bajos y de forma reproducible. Haya una variedad de tipos de fibras en lo referente a tamaños,índices de refracción, longitud de onda de trabajo, materiales en el cableado, etc... Las fibras ya en forma de cable sean manejables como un cable eléctrico convencional sin problemas en el manejo que degraden su operatividad Las fibras puedan soldarse o conectarse sin dificultades excesivas y sin grandes atenuaciones o disminución de ancho de banda. 4.2 Fabricación de fibras A partir de los análisis sobre el comportamiento de las fibras ópticas parece claro que una parte fundamental para el guiado de señales ópticas es el control de los índices de refracción en el interior de la fibra. Al menos son necesarios dos materiales distintos que sean transparentes a la luz en el intervalo de longitudes de onda de trabajo. Como en la práctica la transparencia absoluta no existe se pide que los materiales tengan una atenuación óptica muy baja y que también lo sea la absorción intrínseca así como la dispersión espacial. Hay numerosos materiales que cumplen estas características. También es fundamental evitar la dispersión espacial debida a motivos extrínsecos como puedan ser las burbujas, grietas, tensiones, gránulos, etc. Esto restringe el número de materiales útiles y los únicos que cumplen las especificaciones son algunos vidrios, plásticos y sustancias monocristalinas. 43 4.3. TÉCNICAS DE FASE LÍQUIDA 44 Otro apartado importante es que ha de ser posible (para la fabricación de fibras con índice gradual) la ligera modificación del índice de refracción mediante la disolución de varias sustancias y por tanto estas deberán ser solubles en un amplio margen de composiciones (no es simple). Esta última característica no puede obtenerse en materiales monocristalinos y por tanto tan sólo nos quedan los vidrios para fibras de índice gradual aunque ambas pueden utilizarse en fibras de índice abrupto. La gran ventaja que ofrecen los vidrios los han hecho ser al final los únicos materiales con uso real. Por último los plásticos tienen características mucho peores aunque son mucho más baratos y pueden usarse para sistemas de transmisión de corto alcance y pequeños anchos de banda. Una vez establecido cuales son los materiales con los que se van a fabricarlas fibras ópticas vamos a describir brevemente los distintos métodospara la consecución de fibras de vidrio, éstos son principalmente dos: Técnicas convencionales en las cuales se mantiene el material vítreo en estado fundido produciéndose así una estructura de vidrio multicapa. Métodos de deposición en fase vapor que permiten fabricar vidrios silicatados que no podrían procesarse en fase líquida debido a su alto punto de fusión. 4.3 Técnicas de fase líquida Aquí el proceso se inicia a partir de obtener los materiales a mezclaren estado lo más puro posible, de hecho ya comercialmente pueden encontrarse productos de alta pureza (1 parte de impurezas en 109 ), gran parte del precio del proceso radica en esta fase. Los materiales típicos son óxidos (S iO2 , GeO2 ,B2 O2 y Al2 O3 ) y carbonatos (Na2 CO3 , K2 CO3 , CaCO3 y BaCO3 , ) que se descomponen como óxidos en el proceso de fabricación. Todos estos compuestos han sido secados adecuadamente para reducir en lo posible la aparición de iones OH. Una vez que ya tenemos los materiales en estado puro se trata de obtener una mezcla uniforme y libre de burbujas, se puede conseguir el índice de refracción deseado mediante el intercambio iónico de los componentes durante el proceso de fundido y mezclado. Este proceso se produce a temperaturas entre los 900 y 13000 C y se hace en el interior de un recipiente de silice (cuyo punto de fusión es mucho más elevado). Los problemas en esta fase vienen dados por: la contaminación ambiental que puede incorporase a la mezcla en ambientes de alta pureza donde se elimine este problema hay incorporaciones de material del recipiente a la mezcla. Un ejemplo del método citado puede verse en la figura 4.1. Este último problema puede solucionarse mediante el uso de recipientes de platino, o bien, cambiando el sistema de elevación de temperatura, en lugar de utilizar el calentado mediante hornos se utilizan los sistemas de radiofrecuencia que serán absorbidos (y por lo tanto calentarán) por materiales iónicos, que es el caso de la mezcla mientras que no calentarán el recipiente, de esta forma queda una película de la mezcla sobre el recipiente que aisla la parte líquida del silice. Una vez conseguida la mezcla esta se enfría y nos quedan grandes cilindros del material del núcleo de la fibra. Asímismo se hacen cilíndros huecos del material que va a ser la envoltura. 4.3. TÉCNICAS DE FASE LÍQUIDA 45 Figura 4.1: Sistema de fase líquida para obtención de preformas para fibra óptica. 4.3.1 Manufacturado de la fibra Por último nos queda el proceso de estirado. La primera fase consiste en introducir el material del núcleo (cilindro macizo) en el interior de la envoltura (cilindro hueco) teniendo en cuenta que los tamaños de los cilindros son de algunos cm de diámetro. Ahora los dos cilíndros concéntricos pasan a través de un horno que va a colapsar la estructura y a partir de una semilla se empezará a tirar del extremo, la velocidad con la que se tire fijará el grosor del hilo que extraigamos, la conjunción del horno más el tirado forma la fibra. Aquí hay que cuidar que el proceso de tirado sea muy uniforme al igual que el proceso del desplazamiento de los cilíndros iniciales sobre el horno. El principal peligro de este proceso es que aparezcan inhomogeneidades en la intercara entre nucleo y envoltura como, por ejemplo, elementos extraños o burbujas. El proceso puede verse gráficamente en la figura 4.2. Hay nuevos métodos que evitan la fabricación de los cilindros iniciales y consisten en el método del doble recipiente (figura 4.3). En este método tendremos dos recipientes uno dentro del otro, en el interior estrá la mezla del núcleo y en el exterior el de la envoltura, ambos recipientes tienen una salida en la parte inferior y las dos son concéntricas, al salir la temperatura disminuye y se solidifica formándose la fibra y al igual que anteriormente ahora el diámetro de la fibra se regulará mediante la velocidad con que se tire para obtener la fibra. En este método puede (al contrario que con el anterior) fabricarse fibra de índice gradual mediante la difusión entre ambos compuestos en la zona de solidificación de la mezcla, de todas formas no puede obternerse el perfíl deseado ya que este viene forzado por el método de fabricación. Se han conseguido atenuaciones del orden de entre 1 y 3 dB/Km y dispersiones de alrededor de 1-6 ns/Km. La gran ventaja es que el método de producción es contínuo con lo que pueden obtenerse fibras de cualquier longitud. 4.3. TÉCNICAS DE FASE LÍQUIDA Figura 4.2: Formación de una fibra por estirado de preformas. Figura 4.3: Método del doble recipiente para procesado de fibra contínua 46 4.4. TÉCNICAS DE FASE VAPOR 47 Figura 4.4: Variación del índice de refracción de la sílice con distintos dopantes. 4.4 Técnicas de fase vapor Este tipo de proceso se utiliza para conseguir vidrios ricos en silice, con alta transparencia y óptimas propiedades ópticas. Los materiales de partida son compuestos volátiles (gases o líquidos o sólidos con alta presión de vapor) que pueden ser purificados como en el caso anterior hasta niveles de impurezas por debajo de 109 . La modificación del índice de refracción se consigue mediante la adición de materiales que no forman parte de la silice como por ejemplo T iO2 , GeO2 , P2 O5 , Al2 O3 , B2 O3 y F cada uno de ellos causa distintos efectos en el índice de refracción. En una cámara de reacción se mexclan de forma gaseosa los formantes de la silice, los dopantes y oxígeno, se producen reacciones químicas formándose los compuestos sólidos deseados, la deposición de estos compuestos tiene lugar sobre un sustrato o en la paredes de un tubo hueco y se va formando capa tras capa el material deseado, como podemos controlar la deposición por capas, esto nos va a permitir, cambiando la composición de los gases, llegar a los perfiles de índice de refracción que se hayan calculado previamente. Un ejemplo de la vvariación de los índices de refraccíon con la concentracín de dopante puede verse en la figura 4.4. Hay varias técnicas que aprovechan el proceso antes citado cada una con sus ventajas e inconvenentes, vamos a describirlas someramente. 4.4.1 Proceso de oxidación externa en fase vapor (OVPO). Consiste en pasar los compuestos en fase vapor a través de una llama generada por una reacción O-H, de esa forma los vapores se hidrolizan en la llama y se van depositando sobre un tubo fino y frio, el tubo va girando constantemente y se va depositando la película por capas, el espesor de estas capas se puede regular mediante la velocidad de deposición y la velocidad de giro. Como ya hemos dicho cambiando el tipo de gases va cambiando la película pudiendo formarse el perfil deseado (figura 4.5 a). Una vez depositado el material (se deposita un espesor de varios cm) este queda en forma de masa porosa, de ella tiene que extraese el tubo interno que sirvió como base de deposición y posteriormente hay que cristalizar el cilíndro hueco para eliminar la porosidad y por tanto el aire que pueda contener (figura 4.5 b). Finalmente se pasa a través de un segundo horno donde ya se estira para conseguir la fibra cerrando el hueco interno y dejando la fibra en su estado final (figura 4.5 c). 4.4. TÉCNICAS DE FASE VAPOR 48 Figura 4.5: Esquema del proceso de oxidación externo en fase vapor (OVPO) (a) Deposición del material; (b) Eliminación de la porosidad; (c) Estirado de la fibra. Los problemas que plantea esta técnica son varios, el primero es que la eliminación del agua no es total y quedan trazas que contribuyen a la atenuación, ésta puede eliminarse si el proceso de compactado se realiza en presencia de Cl que elimina mejor el agua. El segundo de los problemas es que queda una depresión en el índice de refracción en el centro de la fibra al eliminar el agujero central, también la eliminación del tubo interno genera microfracturas que posteriormente actuaran en favor de la dispersión Mie. Como problema final tenemos que es un proceso por lotes por lo que la dimensión final de la fibra queda limitado aunque se han conseguido fibras de 250Km 4.4.2 Deposición de vapor axial (VAD). Este proceso fue desarrollado para conseguir un procesado continuo (en lugar de por lotes). Consiste en la deposición de los materiales de formación de la fibra en un extremo en lugar de sobre toda la superficie. La barra de material se va desplazando durante el transcurso de la deposición y sigue los mismos pasos que el proceso anterior eliminando los pasos determinados por la barra intermedia. Ahora la barra inicial crece en dirección axial y se desplaza a la velocidad de crecimiento, el perfil es controlado por la temperatura en los distintos tipos del sustrato que se fija según las condiciones de los flujos de gases (figura 4.6). Este tipo de fibras también sufre de perdidas debidas a la absorción de agua pero en ellas se evitan las microfacturas y la depresión debida al agujero central. Pueden conseguirse atenuaciones más bajas que en el proceso anterior, en el rango entre 0.7 y 2dB/Km. 4.4.3 Deposición química de vapor modificada (MCVD). La deposición química de vapor es utilizada en los procesor decrecimiento de una capa aislante deSiO2 en la industria de los circuitos integrados y se traslado a los procesos de fabricación de fibra óptica. Consiste en la utilización de un compuesto muy votatíl del Si, tipicamente SiH4 que entra en contacto con oxígeno y forma el SiO2 y agua que se evapora, pero hace falta una superficie inicial donde se produzca la reacción. En el caso de la producción de fibra, esta superficie es el interior de un tubo de silice frio, las moleculas de gas que viajan en el interior del tubo forman partículas vitreas que se 4.5. FIBRAS DE FLUORUROS 49 Figura 4.6: Proceso de deposición de vapor axial. depositan en las paredes del tubo. El tubo puede ser la envoltura de la fibra o una simple estructura de soporte que no va a participar en el guiado óptico. El núcleo se va formando por capas moviendo axialmente el horno sobre el tubo contenedor, finalmente la estructura resultante que es hueca pasa por otro horno se colapsa y se forma la fibra resultante (figura 4.7). Esta es la técnica que se usa predominantemente en la actualidad, tiene como ventajas la reducida contaminación con agua y que al realizarse el proceso en una zona limpia las impurezas debidas al ambiente se reducen radicalmente. Mediante este tipo de fibras es usual la obtención de atenuaciones de 0.35dB/Km y anchos de banda en fibra graduales multimodo que rozan los 5GHzKm. Su problema es que es una técnica que utiliza el procesado por lotes limitando así la longitud máxima de las fibras. 4.4.4 Deposición química de vapor activada por plasma (PCVD). Esta técnica es una variación de la anterior de forma que se varía el tipo de calentamiento de los vapores, mientras que en la anterior se usaba calor resistivo en este caso se calienta mediante plasma evitando la formación de partículas que queden libres antes de su deposición sobre la película. Se pueden conseguir perfiles a volutad con mayor facilidad que con las demás estructuras y se llegan a depositar unas 2000 capas lo que nos da una idea del control que podemos tener sobre el perfil (figura 4.8). Salvando este punto el proceso replica al anterior con sus ventajas e inconvenientes. 4.5 Fibras de fluoruros Como se puede deducir de los análisis de atenuación que se hicieron en capítulos anteriores, si se cambiaba el material base y en lugar de silice se utilizaban fluoruros las atenuaciones mínimas teóricas podían llegar a 0.02dB/Km, para longitudes de onda entre las 2 y 5m. Para su realización se utilizan sistemas vítreos basados en fluorozirconatos (ZrF4 ) y fluorohafnatos (HfF4 ). Las fibras de este tipo han sido realizadas mediante las mismas técnicas descritas con anterioridad para silicatos, el problema es que se han encontrado que la utilización de recipientes tanto de silice como de platino. La solución encontrada y que a primera vista es bastante artesanal ha sido la siguiente; sobre un recipiente frio se deposita el líquido que formará la envoltura de la fibra, antes de que este termine de 4.5. FIBRAS DE FLUORUROS 50 Figura 4.7: Esquema del método de deposición en fase vapor modificado: (a) Deposición por capas; (b) Colapso del cilindro previo para obtener el cilindro preformado; (c) Estirado de la fibra. Figura 4.8: Sistema de deposición química de vapor activada por plasma (PCVD). 4.5. FIBRAS DE FLUORUROS 51 solidificar y dado que lo hará primero en los bordes del recipiente se vacia el interior resultado un cilíndro hueco, en este hueco se deposita el material formante del núcleo y se permite que solidifique, a partir de aquí se puede utilizar las técnicas de hilado vistas con anterioridad en el apartado 4.3.1. Medidas de campo han resultado en atenuaciones de 0.03dB/Km para un longitud de onda de 2.56m.