Circuitos integrados bipolares Los circuitos integrados bipolares son históricamente los primeros circuitos integrados monolíticos. Han ido perdiendo gradualmente su liderazgo a favor de los circuitos integrados MOS básicamente por sus desventajas, relacionadas con su baja densidad de integración. Esto es válido especialmente para los circuitos integrales digitales, donde hoy en día tienen baja presencia (principalmente en circuitos de respuesta rápida). En las técnicas analógicas los circuitos integrados bipolares todavía mantienen una presencia significativa, aunque en los últimos años los CI MOS han experimentado una expansión en este campo también. Su uso como circuitos analógicos integrales es debido al hecho de que las estructuras bipolares en su naturaleza física se adaptan mejor al procesado de señales digitales – tienen buenas propiedades de amplificación, son controlados por corriente, pueden operar a altos voltajes, tienen baja resistencia, y ofrecen la posibilidad de realizar diversas funciones en las etapas de procesamiento de señales. Se utilizan componentes activos para la producción de circuitos integrados bipolares (transistores NPN y PNP, diodos, diodos zener, diodos Schottky, transistores de efecto de campo), así como elementos pasivos (resistencias y condensadores). Con el objetivo de conseguir componentes separados en la placa de aislamiento eléctrico entre los monocristal de silicio se emplean tres métodos como son: - Aislamiento con diodo; - Aislamiento con dieléctrico; - Aislamiento combinado El método más popular de aislamiento eléctrico es el que utiliza uniones PN inversamente polarizadas (aislamiento con diodo). Así son formadas zonas N, separadas por canales con tipo de conducción opuesta. Estructura con aislamiento por diodo Dos diodos son dispuestos de esta forma entre dos áreas N y son conectadas por sus ánodos una a la otra. Si el potencial más negativo del circuito se dirige a su área de ánodo común, entonces aparecerán diodos inversamente polarizados entre las dos zonas, cuya gran resistencia (unos cuantos M Ohms) impedirá el flujo de corriente entre las dos zonas. La ventaja de este método reside en su simplicidad tecnológica y en el logro de un gran rendimiento. Por lo tanto se prefiere en los circuitos bipolares con bajo nivel de integración. Sin embargo, el método tiene inconvenientes significativos, limitando su aplicación en circuitos con un ultra alto nivel de integración. Estos inconvenientes con la gran área topológica del chip, tomada para los canales de aislamiento. Esto se debe a la anisotropía de la difusión por la cual estos canales son formados y por la penetración de las impurezas aceptoras bajo la capa de óxido. Otras desventajas de este método son las relacionadas con la aparición de condensadores parásitos de alto valor nominal en las juntas aislantes PN y la aparición de otros efectos parásitos activos (transistores adversos y estructuras de tiristores). En la producción de circuitos integrales súper grandes el método de aislamiento combinado, (en el cual las ventajas del aislamiento con diodo o con dieléctrico están combinadas) ha encontrado aplicación. En este caso el aislamiento lateral con dieléctrico entre dos monocristales vecinos de tipo N se combina con áreas con uniones PN de aislamiento entre la zona N y el sustrato. Mediante el uso de canales localmente oxidados obtenidos por el proceso LOCOS, la estructura, mostrada en la figura inferior es obtenida, conociéndose como método ISOPLANAR. Estructura de transistor obtenida por el método ISOPLANAR Durante la síntesis de los circuitos integrales bipolares el objetivo es que son creados si es posible con el máximo uso de transistores NPN. Los transistores NPN se caracterizan por el poseer buenos parámetros eléctricos (alto coeficiente de amplificación de corriente, buenas tensiones de rotura, buenas propiedades de frecuencia y rápida repuesta, posibilidad para obtener estructuras con diferentes valores de la corriente de colector, reproducibilidad de los parámetros, un área topológica comparativamente más pequeña).