Fundamentos del transitor MOSFET

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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Fundamentos del transitor MOSFET
Lección 04.1
Ing. Jorge Castro-Godı́nez
Escuela de Ingenierı́a Electrónica
Instituto Tecnológico de Costa Rica
II Semestre 2013
Jorge Castro-Godı́nez
Fundamentos del transitor MOSFET
1 / 50
Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Contenido
1
Generalidades
2
Regiones de operación
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
3
Ejemplos
Jorge Castro-Godı́nez
Fundamentos del transitor MOSFET
2 / 50
Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Generalidades
(1)
¿Qué es un transitor?
Es un dispositivo de al menos 3 terminales. Una de las
terminales actua como elemento de control del flujo de
corriente entre las otras dos terminales.
El transitor MOSFET es escencialmente un condesador MOS
con dos junturas pn colocadas de manera adjunta a una
región de semiconductor controlada por la compuerta MOS.
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Generalidades
(2)
MOSFET está basado en el efecto de campo.
Se emplea un campo eléctrico para controlar corriente entre
dos terminales.
Transistor más utilizado, cerca de un 80 % del mercado.
Constituye la base de la industria microelectrónica.
1986 / 1.5mm
1993 / 0.6mm
1988 / 1.0mm
1996 / 0.4mm
Jorge Castro-Godı́nez
1991 / 0.8mm
1998 / 0.25mm
2000 / 0.18mm
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Generalidades
(3)
El transistor MOSFET es un dispositivo de 4 terminales:
compuerta (G), fuente (S), drenador (D) y sustrato (B).
Dispositivo unipolar: corriente de condución involucra
prácticamente un solo tipo de portador de carga.
MOSFET consiste en:
2 regiones semiconductoras fuertemente dopadas separadas por
una región semiconductora de tipo de complemetario.
un aislante y en electrodo sobre dicha región.
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Generalidades
Drenador
(4)
Compuerta
Fuente
Polisilicio
Dióxido de silicio
Polisilicio +
Substrato (Si dopado)
SiO2
Substrato
Jorge Castro-Godı́nez
Difusión (Si de dopado
complementario al
substrato)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Generalidades
(5)
Compuerta
Fuente
Drenador
Ancho del canal (W)
Substrato
Largo del canal (L)
Dióxido de silicio
Polisilicio +
Substrato (Si dopado)
X (profundidad
de canal)
Z (ancho de canal)
Y (largo de canal)
Difusión (Si de dopado
complementario al substrato)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Generalidades
(6)
Compuerta aislada de la
superficie del silicio por SiO2
Controla la resistencia
entre fuente y drenador
Compuerta (G)
Drenador (D)
E ^al semiconductor
aplicando voltaje de
compuerta
Fuente (S)
Polisilicio
SiO2
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Fundamentos
del transitor
MOSFET
Substrato
(B)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Generalidades
(7)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Generalidades
(7)
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Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Polarización y Regiones de Operación
1
Desde el punto de vista del potencial de superficie / VGS
Transistor apagado ⇒ Corriente ≈ 0
Banda plana
Acumulación
Agotamiento
Inversión débil
Transistor encendido ⇒ Corriente 6= 0
Inversión fuerte
2
Desde el punto de vista de VDS en comparación con VGS
Transistor apagado ⇒ Corriente ≈ 0
Región de corte
Transistor encendido ⇒ Corriente 6= 0
Región lineal
Región de saturación.
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Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Banda plana
yS : potencial en la interfaz Si-SiO2, potencial de superficie, medido con
respecto a fB
f B: potencial en el semiconductor en zona lejana a la interfaz Si-SiO2,
diferencia entre Ei y EF
Banda plana:
EC
ys = 0
Ei
VGS = VFB
EF
fB
EF
EV
-VFB voltaje necesario para compensar la diferencia de función de trabajo
del metal y el semiconductor
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Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Acumulación
VGS < 0
Acumulación: yS < 0
- huecos se acumulan en la superficie
- no se forma canal entre drenador y
fuente = transistor inactivo
Drenador
EC
yS
Fuente
+++++
-
n+
+
V
EF
Compuerta
-
n+
p
E
+
fB
Ei
EF
EV
+
Substrato
Sin canal Þ MOSFET = Dos diodos en serie en direcciones opuestas Þ IDS ≈ 0
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Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Agotamiento
Agotamiento: 0< yS < fB
0 < VFB < VGS < VTH
Compuerta
+
Drenador
+
n+
+
Fuente E
EC
+
+
+
yS
Substrato
V
n+
+
-
+
p
VTH = voltaje de umbral (VGS para activar MOSFET)
EF
Ei
EF
EV
-huecos repelidos de la superficie = empobrecimiento de huecos en la superficie
-Transistor aún inactivo = región de subumbral
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Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Inversión
Inversión débil: f B < yS < 2 f B
Þ VGS ³ VTH
Inversión fuerte: yS
³
2fB
-electrones atraídos a la superficie = concentración de electrones en la
superficie iguala concentración de huecos en el substrato
Þsuperficie de substrato p se comporta como material n
E V
-existe un canal entre drenador y fuente, transistor activo
Drenador
Compuerta
+
EC
Fuente
Ei
yS
n+
- - - - - - - -
n+
EF
p
Substrato
EF
EV
canal
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EF sobre Ei =
en la superficie
es de tipo N
Zona de agotamiento
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Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Transistor NMOS
Flujo de corriente: de drenador a fuente.
Drenador es la región n+ conectada al potencial más alto.
Se forma canal tipo N entre drenador y fuente
Flujo de corriente debido a electrones.
Compuerta
Drenador
+
Polisilicio N+
n+
Fuente
-
n+
I
P
Substrato
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Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Transistor PMOS
Flujo de corriente: de fuente a drenador.
Drenador es la región p+ conectada al potencial más bajo.
Se forma canal tipo P entre drenador y fuente.
Flujo de corriente debido a huecos.
Desde el punto de vista de fabricación, la fuente y el drenador
son intercambiables.
Sólo pueden distinguirse después de polarizarlos.
Compuerta
Drenador
Polisilicio P+
p+
I
Fuente
+
p+
N
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Substrato
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Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Sı́mbolos
(1)
Símbolos de tres terminales: substrato conectado a fuente, flecha indica
dirección de corriente técnica
Si no se usan flechas, un círculo sin rellenar se añade a la compuerta de los
transistores PMOS
MOSFETs de enriquecimiento
(normalmente apagado)
NMOS
PMOS
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MOSFETs de empobrecimiento
(normalmente encendido)
NMOS
PMOS
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Sı́mbolos
(2)
Símbolos de cuatro terminales: flecha en substrato apunta de P a N
MOSFETs de enriquecimiento
(normalmente apagado)
NMOS:
Substrato P,
canal N
PMOS:
Substrato N,
canal P
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MOSFETs de empobrecimiento
(normalmente encendido)
NMOS
PMOS
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Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Curvas ID vs VGS
(1)
Enriquecimiento:
normalmente inactivo
Empobrecimiento:
normalmente activo
I DS
I DS
NMOS
0
V
V
GS
V
GS
th
V
0
V
th
V
GS
0
0
V
GS
th
V
th
PMOS
I
DS
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I
DS
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Curvas ID vs VGS
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(2)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Curvas ID vs VGS
(3)
Curva de transferencia
Función de
transferencia:
Salida = f(Entrada)
Salida : ID
Entrada : VGS
VTH
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Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Curvas ID vs VGS
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(4)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Tensión de umbral VT H
• Voltaje VGS necesario para causar inversión de la superficie
VTH tiene 4 componentes
VTH = fGC + 2fB -
QB Qox
¢
¢
Cox
Cox
Diferencia de función
de trabajo entre
compuerta y canal
Voltaje necesario para
Caída de tensión
cambiar el potencial en la zona de carga
superficial
espacial
Compensación de
cargas parásitas en
SiO2 y la interfaz
óxido-semiconductor
QB = -qNA xd = - 2qNAe Si y S = - 2qNAe Si 2fB
xd: ancho de zona de agotamiento
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Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región de subumbral o corte
La condición de la región de corte o subumbral se da cuando
VGS < VT H .
Idealmente para este caso, la corriente es “cero”.
De manera real, se calcula como:
ID = ID 0 × e
(VGS -VTH )
mV t
ID 0 = ID (VGS
× [1 - e -VDS / Vt ] » ID 0 × e
(VGS -VTH )
mV t
W
W
= VTH ) ×
» 0.1mA ×
L
L
VTH : voltaje de umbral
O bien, con la pendiente de subumbral S,
-1
L: longitud de canal
Vt:
Cdep: capacitancia de agotamiento de substrato,
Cox: capacitancia de compuerta
é d (logIDS ) ù
S=ê
ú = ln10 ×Vt × m
ë dVGS û
W: ancho de transistor
voltaje térmico
m = 1+
ID = ID 0 × e
Cdep
Cox
(VGS -VTH )
mV t
= ID 0 × e
(VGS -VTH ) ln10
S
Cambio en VGS necesario para una variación
de una década en IDS
Valor ideal:
60 mV/dec
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Región lineal
(1)
Las condiciones de la región de lineal:
VGS ≥ VT H
VGS − VT H > VDS
La corriente de drenador se define como:
2 VDS
0W
iD = k
(VGS − VT H ) VDS −
L
2
VDS
iD = k
VGS − VT H −
VDS
L
2
0W
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Región lineal
(2)
Corriente de drenador en la región lineal: VGS ³ VTH, VGS-VTH > VDS
ID = K ' ×
K' =
V
V
W
(VGS - VTH - DS ) ×VDS = K × (VGS - VTH - DS ) ×VDS
L
2
2
m × e OX é A ù
tOX
K=
, ê 2ú
ëV û
m × e OX W
tOX
×
Región lineal
VGS ³ VTH , VDS < VGS - VTH
L
D
G
K: parámetro de transconductancia
K`= transconductancia del proceso
m: movilidad
eOX: permitividad del SiO2 = 3.9e0
tOX: espesor de óxido
S
+
n+
-- ------
-
n+
p
B
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Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Región lineal
(3)
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Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Región lineal
(4)
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29 / 50
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Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Región lineal
(5)
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Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Región satuación
(1)
Corriente de drenador en la región de saturación: VGS ³ VTH, VGS-VTH £ VDS
ID =
K' W
K
× (VGS - VTH )2 = (VGS - VTH )2
2 L
2
D
+
Modulación de largo de canal
n+
K' W
ID = × (VGS - VTH )2 (1 + lVDS )
2 L
G
S
-
-- - - -
n+
p
l : coeficiente de modulación de canal [V-1]
B
Modulación de longitud de canal: Estrangulamiento del canal
a partir de VDS ³ VDS,SAT = VGS-VTH
ÞEl canal se acorta ÞLa corriente en saturación no es constante para
un VGS dado, sino depende también de VDS
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Región satuación
(2)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Modulación del canal
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(1)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Modulación del canal
Jorge Castro-Godı́nez
(2)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Modulación del canal
Jorge Castro-Godı́nez
(3)
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35 / 50
Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Modulación del canal
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(4)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Curvas del MOSFET
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(1)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Curvas del MOSFET
(2)
Curva característica de salida
VDS = VGS-VTH
VTH < VGS2 < VGS3< VGS4
VGS =VGS4
Modulación de longitud de canal
VGS =VGS3
VGS =VGS2
En la región lineal el
transistor opera como
una resistencia
controlada por voltaje
VGS =VGS1 < VTH
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Regiones operación
VGS ³ VTH, VGS-VTH £ VDS
VDS
Corte
VDS = VGS-VTH
Saturación
Subumbral
VGS < VTH
VGS ³ VTH, VGS-VTH > VDS
Lineal
VTH
Jorge Castro-Godı́nez
VGS
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Polarización del sustrato
(1)
• Diodos parásitos difusión-substrato deben estar polarizados en inversa
Drenador
Compuerta
n+
Fuente
n+
Drenador
Compuerta
p+
Fuente
p+
P
N
Substrato
Substrato
NMOS: Substrato debe conectarse al voltaje más bajo del sistema, por
ejemplo a tierra (GND).
PMOS: Substrato debe conectarse al voltaje más alto del sistema, por
ejemplo, a VDD.
También como protección ante el efecto de enganche (latch-up)
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Polarización del sustrato
(2)
• Polarización VBS afecta la tensión de umbral VTH = efecto de substrato (body
effect)
Drenador
Compuerta
n+
Fuente
n+
Drenador
Compuerta
p+
Fuente
p+
P
N
Substrato
Substrato
El efecto se conoce también como sensibilidad de substrato
En general, se presenta de manera que aumenta el voltaje de umbral
Puede utilizarse para disminuir la corriente de subumbral, por ejemplo, en
memorias DRAM
Jorge Castro-Godı́nez
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Sustrato y VT H
• VB ¹ VS cambia el voltaje de umbral
• Se analiza aquí el caso de un NMOS
VTH =VTH 0 + g ( 2fB - VBS - 2fB )
Voltaje de umbral
con VBS=0
Coeficiente de efecto
de substrato
g =
2qNAe si
¢
Cox
Compensación del cambio en la carga
en la zona de carga espacial debido a
VBS ¹ 0
æ NA ö
÷÷
è ni ø
fB = Vt × lnçç
Jorge Castro-Godı́nez
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Región subumbral
Región lineal
Región saturación
Curvas
Umbral
Efecto del sustrato
VBS2 < VBS1< 0
ID
VBS=0
VBS1
VBS2
VDS ³ VGS-VTH
0
VGS
Un voltaje de substrato negativo con respecto al surtidor o bien un
voltaje de surtidor positivo con respecto al substrato causan un
aumento del voltaje de umbral
Jorge Castro-Godı́nez
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Análisis de circuitos
Determine si el existe un canal inducido en el transistor:
VGS ≥ VT H
esto permite establecer si se encuentra “encendido” o
“apagado”.
Si el transistor se encuentra activo, determine si el canal es
continuo:
VGD > VT H
o comprimido:
VGD ≤ VT H
Jorge Castro-Godı́nez
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Regiones de operación
Ejemplos
Ejemplos
(1)
Diseñe el circuito para que
ID = 0, 4 mA y VD = 0, 5 V.
El transistor tiene
VT H = 0, 7 V,
µn Cox = 100µA/ V2 ,
L = 1µm, W = 32µm.
Desprecie el efecto de
modulación de la longitud del
canal.
Jorge Castro-Godı́nez
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Ejemplos
(2)
Determine el valor de R y VD ,
de manera que el circuito
presente una corriente
ID = 80µA. El transistor
NMOS presenta VT H = 0, 6 V,
µn Cox = 200µA/ V2 ,
L = 0, 8µm, W = 4µm.
Considere λ = 0.
Jorge Castro-Godı́nez
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Ejemplos
(3)
Diseñe el circuito para que
VD = 0, 1 V. Considere que
VT H = 1 V, kn0 (W/L) = 1 mA/ V2 .
Determine la resistencia entre fuente
y drenador.
Jorge Castro-Godı́nez
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Ejemplos
(4)
Determine las tensiones
en todos los nodos y las
corrientes en todas las
ramas del circuito.
Considere que
VT H = 1 V,
kn0 (W/L) = 1 mA/ V2 ,
λ=0
Jorge Castro-Godı́nez
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Ejemplos
(5)
Se desea que el transistor del
circuito opere en saturación
con ID = 0, 5 mA y VD = 3 V.
El transistor presenta
|VT H | = 1 V,
kn0 (W/L) = 1 mA/ V2 .
Desprecie el efecto de
modulación del largo del canal.
¿Cuál es el máximo valor que
puede tener RD que permita
mantener la operación del
transistor en la región de
saturación?
Jorge Castro-Godı́nez
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Generalidades
Regiones de operación
Ejemplos
Referencias Bibliográficas I
A. Sedra, K. Smith.
Circuitos Microelectrónicos.
McGraw-Hill, 5ta edición, 2006.
Jorge Castro-Godı́nez
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